全區配置
ADB
整個廠區占地廣闊約1.31平方公里,但在規劃了三個晶圓廠及相關設施後,綜合辦公與研發樓配合整區規劃,得到一個略帶弧形但細長的地塊,將整個量體分成幾個段落每個段落由內凹退縮的陽台與層層綠化的露臺構成,並在頂部有個巨大的圓形開口,夜晚打光可以形成具有韻律的立面效果。
辦公樓的立面設計採用玻璃帷幕及鋁板,使量體更加輕盈;訪客入口採用全玻璃帷幕,使大廳更加壯觀氣派。
OS
在建築平面設計中,適當的量體長度與深度,以串連FAB廠與研發辦公大樓的概念,組合成一個連續性的、流動性的辦公研發樓。東西向立面錯落的層退露台,增加空間的層次,並在外廊形成半戶外的休憩平台。發展各自的對話交流空間。建築一二層採用可間接採光的模矩式立面層退,表現高科技產業的國際性、時代性、標誌性、活力性與特色性。
未來館
立面設計呼應ADB,以玻璃及鋁板等具現代化形象的建築材料,呈現符合時代潮流的建築工藝。
主要做為廠區內人員休閒與運動的主要場地,館內分別具有大型球類練習場,3500-6000人席次集會堂,800人小型報告廳,國際標準泳池10水道,及各種休閒餐飲空間。